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          國產碳基芯片生產線正式啟動,突破EUV光刻機限制,開辟芯片新道路

             發布時間:2025-07-21 00:21 作者:蘇婉清

          在芯片技術領域,一場關于碳基芯片的革新風暴正在中國重慶悄然興起。北京大學重慶碳基集成電路研究院于今年6月正式啟動的碳基芯片生產線,標志著中國在芯片技術上邁出了具有里程碑意義的一步。這一突破不僅擺脫了當前硅基芯片技術對先進光刻機的依賴,更為中國芯片產業開辟了一條全新的發展路徑。

          碳基芯片技術的競爭,實際上早已在全球范圍內悄然展開,尤其是中美兩國之間的較量尤為激烈。中國的北京大學團隊在這一領域展現出了顯著的領先優勢,這得益于其技術研發的迅猛進展以及國內扎實的基礎材料技術產業支撐。早在2017年,北大團隊就在碳納米管技術方面取得了重大突破,成功制備出5納米柵極的碳納米管CMOS器件,而美國的麻省理工學院團隊直到2019年才構建了碳納米管的16位處理器。

          北大團隊在碳基芯片領域的領先地位不僅體現在時間節點上,更在于其技術成果的質量。通過對比可以發現,北大團隊構建的CPU在晶體管數量相對較少的情況下,性能卻能夠超越麻省理工學院團隊的產品。這背后的關鍵,在于中國在碳基材料方面的深厚積累與獨特優勢。北大團隊制備的碳納米管純度高達99.999999%,遠超麻省理工學院的99.9999%,這種純度的差異直接導致了兩者CPU性能的顯著差異。

          隨著北大團隊在碳納米管技術研發方面的持續突破,碳基芯片的商業化進程也在加速推進。2018年,中國開始籌建4英寸碳基晶圓生產線,并成功制備出4英寸5微米柵長的碳基晶圓。這一過程中,芯片設計、光刻、封裝等配套技術也在同步跟進,全部采用自主研發和國內設備,確保了技術的自主可控。

          然而,4英寸碳基晶圓的成本問題一直是制約其民用化的關鍵因素。為了降低成本并提升性能,中國科研團隊和企業不斷努力,終于在2023年成功制備出8英寸碳基晶圓,碳納米管純度更是達到了前所未有的99.99999999%。這一突破不僅使碳基芯片的經濟性得到了顯著提升,更為其商用化奠定了堅實基礎。

          如今,北京大學重慶碳基集成電路研究院籌建的國內第一條碳基芯片生產線已經正式啟動,這標志著碳基芯片的商業化進程正式拉開帷幕。隨著技術的不斷成熟和成本的進一步降低,我們有理由相信,在不久的將來,碳基芯片將真正走進千家萬戶,成為推動中國芯片產業高質量發展的重要力量。同時,中國在芯片新材料方面的領先地位也將為全球芯片技術的革新和發展貢獻更多中國智慧和力量。

           
           
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