尼康在近期發(fā)布的2025財年第三財季財報演示文稿中，披露了一項重大研發(fā)計劃。據(jù)悉，該公司正攜手合作伙伴，致力于開發(fā)一款能夠融入ASML主導(dǎo)的浸沒式ArF光刻生態(tài)系統(tǒng)的新型光刻機(jī)。這款產(chǎn)品的目標(biāo)上市時間定為2028財年，即2027年4月至2028年3月期間。
在浸沒式ArF光刻領(lǐng)域，ASML憑借其先進(jìn)的TWINSCAN雙工件臺技術(shù)，已經(jīng)占據(jù)了超過九成的市場份額。而尼康，作為該領(lǐng)域的另一位主要參與者，正尋求提升其在市場中的占比，目標(biāo)是將份額提高到與干式ArF領(lǐng)域相當(dāng)?shù)乃健?/p>
尼康認(rèn)為，隨著DRAM內(nèi)存和邏輯半導(dǎo)體技術(shù)向三維方向發(fā)展，浸沒式ArF光刻的需求將會持續(xù)增長。為了從ASML手中爭取更多的ArFi訂單，尼康計劃使其正在開發(fā)的光刻機(jī)與ASML的同類設(shè)備生態(tài)系統(tǒng)兼容，這將有助于那些原本計劃采用ASML光刻機(jī)的用戶更容易地遷移到尼康平臺。
尼康還透露，其新一代浸沒式ArF光刻機(jī)將采用創(chuàng)新的鏡頭和工件臺設(shè)計，并且具有尺寸緊湊、易于維護(hù)的特點(diǎn)。這些技術(shù)優(yōu)勢將有助于尼康在市場上與ASML展開更激烈的競爭。尼康還表示，他們預(yù)計將在2030年后啟動再下一代光刻機(jī)的開發(fā)工作。
