在半導體行業的矚目之下，全球半導體年度盛會SEMICON China 2025圓滿閉幕，此次盛會匯聚了超過1400家產業鏈上下游企業，吸引了逾十萬行業精英共聚一堂。東方晶源微電子科技（北京）有限公司，作為國內良率提升解決方案的佼佼者，攜其全系列產品及最新研發成果驚艷亮相，彰顯了中國智造的強大實力。
展會期間，東方晶源的技術團隊成為焦點，他們由資深工程師組成，連續三天舉辦了八場技術講座，內容覆蓋電子束量測檢測設備、計算光刻軟件等核心產品，深入剖析了半導體行業的發展趨勢和技術創新。通過硬件與軟件的完美協同，東方晶源展示了從設備精度到數據算法的完整技術鏈條，充分展現了其產品競爭力。
技術團隊的演講內容詳實且富有深度，通過大量數據和典型案例，生動詮釋了東方晶源在國產良率管理領域的技術突破和應用實踐。這不僅讓全球行業精英對中國在該領域的國產化替代水平有了深入了解，也極大地促進了產業鏈上下游的知識共享和生態建設?，F場互動頻繁，氣氛熱烈。
東方晶源在過去一年中，聚焦核心技術難題，持續投入研發，取得了一系列令人矚目的進展。展會現場，其電子束量測檢測設備、PanGen?計算光刻平臺、YieldBook良率管理平臺等迭代新品吸引了眾多參觀者的目光。其中，DR-SEM r655、PanGen DMC?、PME工藝優化系統等關鍵成果更是成為展會亮點，吸引了眾多上下游合作伙伴前來交流探討。
在電子束量測檢測領域，東方晶源繼成功推出DR-SEM r600后，經過兩年迭代，最新一代DR-SEM r655在性能上實現了質的飛躍。它搭載了新型高性能電子槍和光學檢測模組，采用升級版傳片系統和智能算法，突破了多項技術難題，滿足了國內先進制程產線的應用需求。同時，東方晶源自主研發的EOS成功應用于旗下多款量測檢測設備，為產業鏈自主可控提供了關鍵技術支撐。
東方晶源自2014年創立之初，便開創性地提出了基于CPU+GPU混合算力架構的全芯片反向光刻技術（ILT）解決方案。經過十一年的持續迭代，其PanGen?良率綜合優化平臺已廣泛應用于國內主流邏輯和存儲芯片制造商的工藝研發和量產中。此次展會，東方晶源展示了圍繞軟件生態的全系列工具，包括PanOVL套刻標記優化工具、PanGen DMC?設計可制造性檢查工具等。
PME作為東方晶源踐行HPO理念的又一力作，已在客戶現場完成全面部署，并正式步入產品驗證與評估階段。它深度融入了東方晶源的“設備-數據-算法”三位一體、軟硬協同的良率提升解決方案，成為突破半導體先進制程良率瓶頸的重要工具。同時，國內某先進節點FAB的實測結果表明，PanGen DMC?在全芯片尺度預測指標上已達到國際先進水平。
東方晶源始終致力于為國內FAB客戶提供全面、高效的技術支持，以技術創新驅動產業升級。此次展會所展示的一系列突破性成果，不僅體現了其現有的技術優勢，更彰顯了其持續創新的研發實力。從電子束量測檢測到計算光刻軟件，從點工具到系統方案，東方晶源已構建起完整的良率提升技術生態，為中國半導體高端設備產業的自主可控發展注入了強勁動力。
