在半導(dǎo)體行業(yè)的矚目之下，2025年超大規(guī)模集成電路研討會(huì)（VLSI Symposium）即將于6月8日至12日在日本京都拉開帷幕。作為該領(lǐng)域最負(fù)盛名的國際盛會(huì)，VLSI Symposium每年都會(huì)吸引全球頂尖企業(yè)和學(xué)者共襄盛舉。
近日，VLSI官方提前發(fā)布了一系列即將在研討會(huì)上揭曉的論文預(yù)覽，其中Intel的18A工藝技術(shù)細(xì)節(jié)尤為引人注目。據(jù)悉，相較于Intel 3制程，18A節(jié)點(diǎn)在性能、能耗及面積（PPA）三大關(guān)鍵指標(biāo)上均實(shí)現(xiàn)了顯著提升，有望為消費(fèi)級客戶端產(chǎn)品及數(shù)據(jù)中心產(chǎn)品帶來革命性的進(jìn)步。
據(jù)英特爾透露，在相同電壓（1.1V）和復(fù)雜度條件下，18A制程可使標(biāo)準(zhǔn)Arm核心子模塊的性能提升25%；而在保持相同頻率和電壓的情況下，其功耗較Intel 3降低了36%。更令人驚嘆的是，在低壓狀態(tài)（0.75V）下，18A制程不僅實(shí)現(xiàn)了18%的性能提升，還同時(shí)降低了38%的功耗。該工藝相較于Intel 3實(shí)現(xiàn)了0.72的面積微縮，進(jìn)一步提升了芯片的整體效率。
18A制程之所以能夠?qū)崿F(xiàn)如此顯著的PPA優(yōu)勢，得益于其采用的全環(huán)繞柵極（GAA）RibbonFET晶體管與PowerVia背面供電網(wǎng)絡(luò)（BSPDN）兩大核心技術(shù)。這兩項(xiàng)技術(shù)的結(jié)合，不僅提升了晶體管的密度和面積效率，還優(yōu)化了柵極、源漏極及接觸結(jié)構(gòu)，從而提高了單元集成密度與均質(zhì)性。
在具體應(yīng)用方面，18A工藝的高性能（HP）庫單元高度從240CH降至180CH，高密度（HD）庫從210CH縮減至160CH，垂直尺寸平均縮減約25%。這意味著在相同面積內(nèi)可以容納更多的晶體管，從而大幅提升芯片的性能和能效。
PowerVia技術(shù)通過將供電線路轉(zhuǎn)移至芯片背面，釋放了正面的信號(hào)布線空間，進(jìn)一步提升了芯片的集成度和信號(hào)傳輸質(zhì)量。這些技術(shù)改進(jìn)使得18A制程在單位面積性能與能效表現(xiàn)上取得了突破性的進(jìn)展，為先進(jìn)芯片設(shè)計(jì)提供了強(qiáng)有力的支持。
在量產(chǎn)方面，英特爾計(jì)劃在今年晚些時(shí)候啟動(dòng)Panther Lake處理器的量產(chǎn)工作，而數(shù)據(jù)中心芯片Clearwater Forest則預(yù)計(jì)將于2026年初實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。首款基于18A工藝的第三方芯片設(shè)計(jì)也預(yù)計(jì)將在2025年中期完成流片驗(yàn)證。
蘋果、英偉達(dá)、英特爾以及Alphawave Semi的工程師共同署名了一篇關(guān)于18A制程PAM-4的研究論文。雖然這并不能直接證明這些公司將引入18A工藝，但至少表明了他們對這一技術(shù)的興趣和驗(yàn)證意向。
在英特爾Vision 2025活動(dòng)上，英特爾高級副總裁、代工部門負(fù)責(zé)人Kevin O'Buckley宣布，根據(jù)已向客戶交付的硬件來看，英特爾代工目前最為先進(jìn)的Intel 18A邏輯制程已進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)階段。這意味著18A制程已經(jīng)技術(shù)凍結(jié)，并且客戶在驗(yàn)證中對該制程的表現(xiàn)感到非常滿意。英特爾下一步的目標(biāo)是實(shí)現(xiàn)18A制程的產(chǎn)能爬坡，以確保在這一節(jié)點(diǎn)上同時(shí)滿足技術(shù)和規(guī)?；男枨?，并計(jì)劃在今年下半年實(shí)現(xiàn)最終量產(chǎn)。
