TechInsights最近的分析揭示，ASML的EUV光刻機功耗驚人。據(jù)悉，0.33 NA型號的功耗已達1170千瓦，而更先進的0.55 NA（High NA）型號預計將飆升至1400千瓦，這相當于約1000臺滿載電火鍋的能耗。
隨著EUV技術(shù)的普及，其對能源的需求也日益凸顯。據(jù)統(tǒng)計，目前有31家晶圓廠采用這項技術(shù)，預計到2030年將激增至59家。而EUV光刻設(shè)備的數(shù)量，預計將增長超過一倍。
這一增長趨勢意味著，到2030年，全球EUV光刻機的電力消耗將達到驚人的6100吉瓦時。這一數(shù)字與盧森堡和柬埔寨兩國2020年的總用電量相當。值得注意的是，在半導體晶圓廠中，EUV光刻機的用電量僅占總用電量的11%左右。其他工藝設(shè)備和HVAC系統(tǒng)同樣產(chǎn)生了巨大的能源消耗。
當前，半導體行業(yè)正面臨重大抉擇。一方面，EUV光刻技術(shù)在推動創(chuàng)新和滿足先進芯片需求方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用；另一方面，該技術(shù)帶來的能源負擔也不容忽視。
分析機構(gòu)指出，隨著技術(shù)的不斷進步和市場的持續(xù)擴張，半導體行業(yè)需要在保持創(chuàng)新的同時，積極探索節(jié)能減排的解決方案，以實現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展。
