在電子束檢測技術的廣闊天地里，東方晶源以其不懈的努力與卓越的創新力，成為了國產替代浪潮中的一顆璀璨明星。多年來，該企業深耕細作，不僅成功打破了電子束缺陷檢測設備EBI與關鍵尺寸量測設備CD-SEM領域的國外壟斷，更贏得了市場的廣泛認可與贊譽。
時間的指針撥回到2023年初，東方晶源攜DR-SEM r600驚艷亮相，這款搭載了3通道電子成像技術與新型設備平臺的力作，在客戶端順利完成量產驗證，為后續產品的迭代升級奠定了堅實的基礎。經過兩年的潛心研發，如今，東方晶源再次以全新姿態站在行業前沿，推出了最新一代的DR-SEM r655。
r655不僅在硬件上實現了質的飛躍，更在技術上取得了重大突破。全新的高性能電子槍與光學檢測模組，搭配升級版傳片系統和算法系統，使得r655在檢測精度與效率上均達到了國際先進水平。特別是其5通道探測器設計，覆蓋了更廣泛的檢測需求，全方位缺陷表征能力顯著提升，為工程師提供了更為精準、立體的缺陷判定依據。
在材料襯度解析方面，r655同樣表現不俗。頂端探測器增強了背散射電子信號的接收能力，能夠精準捕捉材料襯度差異，滿足先進制程對多種應用場景的苛刻要求。同時，配合高加速電場設計，r655在高深寬比結構的檢測上同樣游刃有余，性能與國際成熟機型不相上下。
光學檢測的升級更是r655的一大亮點。針對無圖形晶圓缺陷復檢需求，r655通過光路優化與深紫外光源系統的兩項核心改進，實現了光學檢測靈敏度的極限突破。調整后的缺陷接收光路大大縮小了與目標缺陷尺寸的檢測差距，而自研光路和定制開發的國產深紫外激光源則使得光學檢測靈敏度提升至20nm，為未來的性能進一步優化預留了充足空間。
在效能方面，r655同樣不負眾望。通過平臺級升級，r655全面優化了晶圓吞吐效率。傳輸與運動控制的優化大大縮短了晶圓傳輸時間，配合新一代電子光學系統，缺陷抓取速度接近國際一線設備水平。同時，模塊化擴展設計使得r655具備靈活的可拓展性，能夠支持多個選配模組和升級需求，完美兼容先進制程的多樣化檢測需求，確保了設備的長期技術競爭力。
東方晶源始終秉持著“高性能優化（HPO）”的核心理念，前瞻性地整合了DR-SEM與GDS-Design系統，通過智能算法的應用，進一步提升了缺陷抓取率，推動了檢測流程的自動化進程。這一系列舉措不僅彰顯了東方晶源在自主創新方面的堅定決心與強大實力，更為我國半導體產業鏈的自主可控提供了堅實有力的支撐。
