莫斯科市長謝爾蓋·索比亞寧近日宣布了一項重大科技突破：位于該市的澤列諾格勒納米技術(shù)中心已經(jīng)成功研制出俄羅斯首臺350納米光刻機，并即將進入批量生產(chǎn)的嶄新階段。
回顧過去，早在2023年，俄羅斯便雄心勃勃地提出了光刻機自主研發(fā)計劃，目標是在2024年實現(xiàn)350納米光刻機的國產(chǎn)化，并預(yù)計在2026年更進一步，完成130納米光刻機的研發(fā)工作。這一宏偉藍圖涉及莫斯科、澤列諾格勒、圣彼得堡及新西伯利亞等多個地區(qū)的技術(shù)協(xié)同與工廠合作。
2024年5月，俄羅斯再次傳來好消息，宣布首臺國產(chǎn)光刻機已經(jīng)組裝完成并進入測試階段。而此次，謝爾蓋·索比亞寧不僅證實了這一消息，還首次向公眾展示了這臺具有里程碑意義的350納米光刻機的實物照片。
索比亞寧市長自豪地指出，全球范圍內(nèi)能夠制造此類半導體關(guān)鍵設(shè)備的國家屈指可數(shù)，而俄羅斯已經(jīng)成功躋身其中。這一成就不僅標志著俄羅斯微電子產(chǎn)業(yè)本土化進程的重大推進，也彰顯了該國在科技自主道路上邁出的堅實步伐。
據(jù)了解，俄羅斯這款光刻機在技術(shù)上具有顯著的創(chuàng)新性。它摒棄了傳統(tǒng)的汞燈光源，轉(zhuǎn)而采用固態(tài)激光器，這一設(shè)計不僅提高了功率和效能，還大大延長了使用壽命，并實現(xiàn)了光譜的集中優(yōu)化。該光刻機的工作區(qū)域廣闊，達到了22×22毫米，能夠支持最大直徑為200毫米的晶圓制造。
值得注意的是，我國在光刻機技術(shù)領(lǐng)域同樣取得了不俗的進展。中科院研發(fā)的深紫外（DUV）激光光源技術(shù)同樣基于固態(tài)設(shè)計，并有望在未來推進至更先進的3納米節(jié)點。然而，目前該技術(shù)仍面臨功率和頻率方面的挑戰(zhàn)。
盡管350納米工藝在當前全球科技水平中顯得相對落后，但它仍然能夠滿足汽車、能源、通信等多個領(lǐng)域的基礎(chǔ)需求。俄羅斯在光刻機技術(shù)上的不斷突破，不僅為這些領(lǐng)域提供了有力的支持，也為該國持續(xù)推進更先進工藝的研發(fā)奠定了堅實的基礎(chǔ)。
除了350納米光刻機的成功研制外，俄羅斯還在積極推進130納米光刻機的研發(fā)工作，并有望在明年完成。俄羅斯已經(jīng)掌握了65納米工藝制造技術(shù)，但目前仍依賴進口設(shè)備。為了全面實現(xiàn)技術(shù)的國產(chǎn)化，俄羅斯正在積極籌備，努力在微電子產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)更大的突破。
