近期，據(jù)Tom's Hardware外媒報道，日本半導體行業(yè)新星Rapidus的首席執(zhí)行官小池淳義在公開訪談中透露，該公司計劃在北海道千歲市的創(chuàng)新集成制造工廠（IIM-1）及規(guī)劃中的IIM-2工廠內(nèi)，部署總共10臺極紫外（EUV）光刻機。然而，具體的安裝時間表尚未對外公布。
回顧去年12月的報道，Rapidus曾提及將引入TWINSCAN NXE:3800E系統(tǒng)的光刻機，但對于是否會采用其他型號的光刻設備，目前仍不明確。
在技術創(chuàng)新與合作的道路上，Rapidus亦展現(xiàn)出積極姿態(tài)。公司已與美國芯片巨頭博通攜手，目標直指2納米尖端芯片的量產(chǎn)，并計劃在今年6月向博通提供試產(chǎn)樣品。這一舉措標志著Rapidus在高端芯片制造領域的雄心壯志。
除了與博通的合作，Rapidus還贏得了Preferred Networks的信任，后者已委托其代工2納米芯片，用于生成式AI處理。Rapidus正積極與30至40家企業(yè)洽談代工業(yè)務，意圖通過承接定制化的少量多品種半導體訂單，與臺積電等傳統(tǒng)大規(guī)模生產(chǎn)模式形成差異化競爭，開辟半導體制造的新路徑。
Rapidus的這一系列舉措，不僅彰顯了其在半導體制造領域的深厚實力，也預示著未來半導體代工市場或?qū)⒂瓉硇碌母偁幐窬帧ｋS著技術的不斷進步和市場的多元化需求，Rapidus有望成為推動半導體行業(yè)創(chuàng)新發(fā)展的重要力量。
