在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展中，芯片制造的精度與效率已成為衡量行業(yè)競爭力的關(guān)鍵指標(biāo)。這一精密工業(yè)的巔峰領(lǐng)域，在檢測(cè)環(huán)節(jié)面臨著前所未有的挑戰(zhàn)：如何在納米級(jí)別上精準(zhǔn)捕捉缺陷，成為提升高端芯片良率與量產(chǎn)效率的重大難題。傳統(tǒng)檢測(cè)手段在速度、精度及實(shí)時(shí)性上的不足，已成為制約行業(yè)發(fā)展的瓶頸。
傳統(tǒng)光學(xué)檢測(cè)技術(shù)受限于光學(xué)衍射極限，難以突破微米級(jí)缺陷識(shí)別的壁壘。盡管電子顯微鏡能達(dá)到亞納米級(jí)精度，但其檢測(cè)速度緩慢且需破壞性取樣，使得“精度與速度”成為難以兼顧的兩難選擇。同時(shí)，芯片微小結(jié)構(gòu)的熱分布異常往往導(dǎo)致熱失控失效，而傳統(tǒng)紅外熱像儀因空間分辨率不足，難以精準(zhǔn)定位微觀熱缺陷。依賴人工復(fù)檢的冗長流程與高端檢測(cè)設(shè)備的高昂成本，形成了“高成本、低效率、高風(fēng)險(xiǎn)”的惡性循環(huán)，嚴(yán)重制約了行業(yè)的進(jìn)一步發(fā)展。
面對(duì)這一困境，格物優(yōu)信微距熱成像儀X 1280系列與X640系列以顛覆性技術(shù)為芯片制造行業(yè)帶來了全新解決方案。這兩款熱成像儀通過定制化微距鏡頭與高靈敏度紅外探測(cè)器，最高可達(dá)130萬紅外像素點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)3微米物體的高清熱成像測(cè)溫，能夠清晰捕捉芯片內(nèi)部導(dǎo)線、焊點(diǎn)的微觀熱分布。同時(shí)，它們支持每秒最高125Hz的高速熱成像，能夠?qū)崟r(shí)追蹤芯片通電、運(yùn)行時(shí)的瞬態(tài)溫度變化，提前預(yù)警局部過熱風(fēng)險(xiǎn)。
格物優(yōu)信微距熱成像儀還配備了專業(yè)測(cè)溫軟件，可根據(jù)芯片封裝樹脂、金屬焊球、陶瓷基板等不同熱導(dǎo)材料進(jìn)行精準(zhǔn)校準(zhǔn)，確保硅基、碳化硅、氮化鎵等全品類芯片檢測(cè)的一致性。這一技術(shù)突破不僅解決了傳統(tǒng)檢測(cè)手段在精度與速度上的不足，還為芯片制造行業(yè)注入了全新動(dòng)能。
格物優(yōu)信微距熱成像儀還針對(duì)被測(cè)物體的微小特性，配備了科研專用支架，支持靜距離實(shí)時(shí)觀測(cè)。這一設(shè)計(jì)使得熱成像科學(xué)研究操作更為便捷，助力光纖檢測(cè)、電子煙發(fā)熱絲、芯片材料無損檢測(cè)等領(lǐng)域的研究項(xiàng)目順利推進(jìn)。同時(shí)，格物優(yōu)信還支持個(gè)性化定制和SDK二次開發(fā)，確保用戶在微觀研究中能夠得心應(yīng)手。
格物優(yōu)信微距熱成像儀X系列已廣泛應(yīng)用于多家高校科研單位的熱成像科研項(xiàng)目，如北京某大學(xué)的材料熱效應(yīng)研究、深圳某研究院的電阻絲監(jiān)測(cè)、浙江某大學(xué)的激光晶體研究等。其成像細(xì)膩清晰、測(cè)溫精準(zhǔn)的特點(diǎn)深受科研用戶的青睞。
格物優(yōu)信微距熱成像儀采用不同分辨率的顯微鏡頭，如1280*1024微距熱像儀4.8μm鏡頭、640*512微距熱像儀17μm鏡頭等，最高可達(dá)130萬紅外像素點(diǎn)，即使是小到3微米的物體也能實(shí)現(xiàn)高清熱成像測(cè)溫。同時(shí)，其配備的IRStudio科研專用軟件具有強(qiáng)大的錄制和分析功能，可對(duì)紅外數(shù)據(jù)進(jìn)行顯示、記錄、特征分析等，滿足用戶在研發(fā)、研究領(lǐng)域中的實(shí)際應(yīng)用需求。
格物優(yōu)信微距熱成像儀的推出，不僅為芯片制造行業(yè)提供了全新的檢測(cè)手段，也為科研領(lǐng)域帶來了更為便捷、高效的熱成像解決方案。這一技術(shù)突破將有力推動(dòng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的進(jìn)一步發(fā)展。
