光刻技術領導者ASML與比利時imec微電子研究中心近日聯合宣布，雙方已簽署一項為期五年的全新戰略合作協議。此次合作旨在結合雙方在先進半導體工藝及可持續發展領域的深厚知識與專業優勢。
根據協議內容，imec主導的后2nm制程節點SoC中試線NanoIC，將引入ASML的一系列尖端設備，其中就包括了High NA EUV光刻機。雙方的合作領域還將拓展至硅光子學、存儲技術以及先進封裝技術。
ASML不僅在技術和設備方面提供支持，還將為imec在探索環境效益和社會效益方面的創新項目提供資金支持。這一舉措展現了ASML對社會責任和可持續發展的重視。
ASML的首席執行官Christophe Fouquet對此表示：“這份協議標志著ASML與imec長期合作關系的進一步深化。它體現了我們共同致力于半導體行業解決方案開發的堅定決心，同時也符合我們通過技術創新回饋社會的戰略愿景。”
imec的首席執行官Luc Van den Hove同樣表達了對合作的積極態度：“我們非常高興能夠繼續與ASML保持這種獨特且持久的合作關系。三十多年來，我們一直在為行業提供前沿的圖案化解決方案。ASML全系列產品的加入，將極大地提升我們中試線的能力，使其更加成熟，為半導體生態系統提供應對AI技術進步挑戰的最先進技術。”
Luc Van den Hove還強調：“imec高度重視可持續創新，將這一理念明確納入我們的合作伙伴關系中，無疑是對我們合作的一個完美補充。”
