【智快網(wǎng)】3月19日消息，NVIDIA近日宣布與TSMC和Synopsys展開合作，共同推動下一代半導(dǎo)體芯片的制造速度，并克服物理限制。這一合作將采用NVIDIA的計(jì)算光刻平臺cuLitho，以加快芯片制造流程，并對未來最新一代NVIDIA Blackwell架構(gòu)GPU提供支持。
據(jù)智快網(wǎng)了解，全球領(lǐng)先的晶圓代工廠TSMC與硅片到系統(tǒng)設(shè)計(jì)解決方案領(lǐng)域的佼佼者Synopsys，已經(jīng)將NVIDIA的cuLitho技術(shù)集成到其軟件、制造工藝和系統(tǒng)中。這一舉措不僅提升了芯片制造的速度，同時也為半導(dǎo)體微縮技術(shù)開辟了新的方向。NVIDIA創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官黃仁勛表示：“計(jì)算光刻技術(shù)是芯片制造的基石，我們與TSMC和Synopsys的合作將通過加速計(jì)算和生成式AI為半導(dǎo)體行業(yè)帶來重大突破?！?/p>
此外，NVIDIA還推出了全新的生成式AI算法，以增強(qiáng)其GPU加速計(jì)算光刻軟件庫cuLitho的性能。與當(dāng)前基于CPU的方法相比，這一新方法在半導(dǎo)體制造工藝上實(shí)現(xiàn)了大幅改進(jìn)。計(jì)算光刻作為半導(dǎo)體制造中高度計(jì)算密集型的工作負(fù)載，每年需要耗費(fèi)大量的CPU計(jì)算時間。而借助NVIDIA的加速計(jì)算技術(shù)，現(xiàn)在可以使用更少的H100系統(tǒng)取代大量的CPU系統(tǒng)，從而在提高生產(chǎn)速度的同時降低成本、空間要求和功耗。
TSMC首席執(zhí)行官魏哲家博士表示：“通過與NVIDIA的合作，我們將GPU加速計(jì)算整合到TSMC的工作流中，實(shí)現(xiàn)了性能的大幅提升、吞吐量的增加、周期時間的縮短以及功耗的降低。我們正在將NVIDIA cuLitho投入到生產(chǎn)中，利用這項(xiàng)計(jì)算光刻技術(shù)推動半導(dǎo)體微縮環(huán)節(jié)的發(fā)展?！弊匀ツ晖瞥鲆詠恚琧uLitho已經(jīng)為TSMC的創(chuàng)新圖案化技術(shù)帶來了新的機(jī)遇，并在共享工作流上進(jìn)行的測試中展示了顯著的性能提升。
Synopsys總裁兼首席執(zhí)行官Sassine Ghazi也表示：“二十多年來，Synopsys的Proteus光掩模合成軟件產(chǎn)品一直是經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的首選加速計(jì)算光刻技術(shù)。然而，隨著制造工藝的不斷進(jìn)步，計(jì)算光刻的復(fù)雜性和計(jì)算成本都在急劇增加。通過與TSMC和NVIDIA的合作，我們開創(chuàng)了能夠運(yùn)用加速計(jì)算的力量將周轉(zhuǎn)時間縮短若干數(shù)量級的先進(jìn)技術(shù)。這對于實(shí)現(xiàn)埃米級微縮至關(guān)重要，并將為芯片制造工藝帶來變革。”借助Proteus光掩模合成產(chǎn)品以及NVIDIA cuLitho軟件庫的支持，制造商可以在鄰近效應(yīng)矯正、構(gòu)建校正模型以及分析集成電路布局圖案的鄰近效應(yīng)方面實(shí)現(xiàn)出色的精度、效率和速度。
NVIDIA還開發(fā)了適用于計(jì)算光刻技術(shù)的開創(chuàng)性生成式AI支持。這一全新生成式AI工作流在cuLitho加快流程速度的基礎(chǔ)上進(jìn)一步提升了性能，使整個光學(xué)鄰近效應(yīng)校正(OPC)流程加快兩倍。通過應(yīng)用生成式AI創(chuàng)建出近乎完美的反向光掩模或反向解決方案來解決光的衍射問題，然后再通過傳統(tǒng)的嚴(yán)格物理方法推導(dǎo)出最終的光掩模。這將有助于緩解晶圓廠工藝變化所帶來的計(jì)算量增加和開發(fā)周期瓶頸問題，降低成本和瓶頸壓力，并為晶圓廠在開發(fā)2納米及更先進(jìn)技術(shù)時提供更多創(chuàng)新解決方案的可能性。
